尼康通過光刻技術(shù)對ASML進行專利訴訟

    日本的尼康在荷蘭，德國和日本對ASML（一家半導體光刻系統(tǒng)制造商）發(fā)起了一系列法律訴訟。

    尼康公司稱，ASML及其光學元件供應商卡爾蔡司（Carl Zeiss）（公司）根據(jù)今天公布的一項公告，將尼康的專利技術(shù)用于ASML的光刻系統(tǒng)。

      “半導體光刻系統(tǒng)進行一個過程，其中使用超高性能透鏡減少由大玻璃板制成的光掩模上繪制的高度復雜的電路圖案，并暴露在稱為晶片的硅襯底上，”尼康在一個頁面上解釋了這項技術(shù)。

      通過用液體介質(zhì)代替最終透鏡和晶片表面之間的通常氣隙，將沉積光刻用于集成電路的制造。

      根據(jù)尼康，制造用于智能手機，存儲芯片和其他產(chǎn)品的半導體是至關(guān)重要的。

    根據(jù)聲明，ASML和尼康是世界上唯一制造和銷售浸沒式光刻系統(tǒng)的公司。

     “尼康已經(jīng)會見了ASML和Zeiss，旨在解決這些問題，但是由經(jīng)驗豐富的調(diào)解人指導所做的這些努力雙方未能達成和解。”

      日本公司表示，繼續(xù)未經(jīng)授權(quán)使用尼康的專利技術(shù)使尼康不得不在法庭上強制執(zhí)行其合法權(quán)益。

    尼康在荷蘭海牙地區(qū)法院起訴了11起針對ASML的專利侵權(quán)案件，正在日本東京地區(qū)法院向該公司提起專利侵權(quán)案件，并對德國曼海姆的Zeiss采取行動。

    尼康代表總裁Kazuo Ushida表示：“我們堅信，ASML未經(jīng)授權(quán)使用尼康專利中先進的技術(shù)，包括浸沒式光刻技術(shù)，使得ASML能夠擴大光刻業(yè)務。”

    尼康正在尋求禁令，禁止ASML和Zeiss銷售和分銷這些系統(tǒng)以及損害賠償。

      尼康曾在美國對ASML和Zeiss公司提起訴訟，2004年達成和解協(xié)議。

    這些公司簽訂了交叉許可協(xié)議，其中一些較舊的專利已被永久許可，一些專利申請日期在2009年12月31日之前有限期許可。

      ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink說：“尼康的訴訟是毫無根據(jù)的，不必要的，并為半導體行業(yè)帶來不確定性。”

    他補充說，過去幾年來，ASML已經(jīng)多次嘗試與尼康進行談判延長其交叉許可協(xié)議。

    他說：“我們感到失望的是，尼康并沒有認真努力進行談判，而是選擇采取法律行動。”

      “這種不必要的專利訴訟分散于真正重要的事情：推動技術(shù)向芯片制造者的利益邁進。我們應該在市場上競爭，而不是在法庭上。“

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